本實用新型實施例公開了一種化學液濃度控制系統和清洗裝置,該化學液濃度控制系統包括儲液模塊,儲液模塊用于儲存化學液,化學液中溶有至少一種化學品;至少一條化學品輸送管路,用于向儲液模塊輸送化學品,化學品輸送管路上設置有流量計;濃度測量模塊,用于測量化學液的濃度;流量控制模塊,流量控制模塊分別與流量計、濃度測量模塊連接,用于根據流量計測得的當前流量數據、濃度測量模塊測得的當前濃度數據和目標濃度控制化學品輸送管路的流量。本實用新型實施例通過流量控制模塊根據當前流量數據、當前濃度數據和目標濃度控制化學品輸送管路的流量以使清洗晶片的化學液始終維持在目標濃度,進而保證對晶片完全且適度清洗。
聲明:
“化學液濃度控制系統和清洗裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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