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    GaN基光化學離子傳感器及其制備方法

    686   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:00:50
    本發明公開了一種GaN基光化學離子傳感器及其制備方法，其制備方法包括：1)Si襯底上依次生長n型GaN緩沖層和n型GaN層；2)n型GaN層上生長本征摻雜GaN層；3)本征摻雜GaN層上生長p型GaN層；4)選擇性刻蝕外延層材料形成刻蝕臺面，在刻蝕臺面外側及側壁上沉積Al2O3層；5)在Al2O3層外側淀積暴露在待測環境中的探測區域，用于將金屬離子濃度轉換為電信號，所述探測區域為TiO2層；6)利用光刻、金屬蒸鍍技術，淀積上金屬電極和下金屬電極。本發明的優勢是利用TiO2光化學效應，通過光激發TiO2產生的電子?空穴對，使TiO2表面吸附的金屬離子發生離子置換效應，從而引起GaN材料的載流子濃度以及電信號發生變化。
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    聲明：
    “GaN基光化學離子傳感器及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    化學分析
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