本發明涉及一種化學機械拋光墊的修整設備的結構及其制造方法。這套設備包括帶螺紋通孔的修整盤底座、帶不同直徑或密度磨粒的基柱、水平測定盤、連桿和懸臂。修整盤表面由四個研磨單元構成,每個研磨單元又由多個基柱構成,每個基柱上面有磨粒。帶磨粒的基柱可以旋入底座的通孔,并可調節露出磨料最高點的高低程度。磨粒由電化學方法固定在基柱表面。整個修整盤的磨粒高度可由一個水平測定盤測定后,才可應用到拋光墊的修整操作。此修整盤可以通過不同的基柱的組合,調節盤中磨粒的密度、磨粒的直徑的分布,控制修整盤對拋光墊的拋光速率與磨損程度,可以有效地修整拋光墊。
聲明:
“化學機械拋光墊的修整設備的結構及其制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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