本實用新型公開一種便于調節化學機械拋光裝置,包括底盤,所述底盤底端的外側壁上開設有環型槽,所述環型槽的內部滑動連接有固定環,本實用新型所達到的有益效果是:本實用新型通過設置復位機構、卡位機構、防護結構和增壓機構,針對不同晶圓表面進行拋光需要調節底盤與拋光頭之間的壓力時,能夠調節氣囊的膨脹程度,調節壓覆在底盤上的拋光頭與底盤之間的壓力,能夠調節底盤的上表面與晶圓之間的而壓力,避免在對不同晶圓進行拋光時影響對晶圓的表面的拋光效果,通過設置卡位機構、復位機構和防護機構,在需要對底盤進行檢修或者更換時,進行拆卸的操作簡單,更換結束后,進行安裝的操作簡單,便于對底盤進行檢修和更換,使用方便。
聲明:
“便于調節化學機械拋光裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)