本發明涉及一種氣相沉積設備。本發明一種制備石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化學氣相沉積裝置,所述裝置包括兩個獨立的真空腔體——主腔體(1)和副腔體(2)、加熱裝置(3)、測溫裝置、供氣裝置、抽氣裝置、冷凝裝置、傳動裝置(4)、插板閥(5)及硼氮蒸發源(6)。其中主腔體(1)用于薄膜材料的制備,副腔體(2)用于硼氮源的洗氣。本發明采用不銹鋼腔壁,使用分子泵+機械泵的抽氣裝置,本底真空可達到10-8mbar,充分減少雜質氣體分子對生長過程造成的影響。采用內加熱方式,不僅能降低能耗,而且能形成溫度更均勻的恒溫區,而溫度測量采用直接測量樣品或者充分靠近樣品,從而得到更準確的溫度參數。設計內加熱裝置的移動降溫功能,實現快速降溫,有效減少降溫過程中碳原子的析出。
聲明:
“制備石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化學氣相沉積裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)