一種基于多孔硅三元結構微腔的光學免疫檢測方法,屬于生物醫藥、食品安全和環境監測的技術領域。該方法所采用的多孔硅微腔內上、下的Bragg結構分別由三種電流密度交替進行電化學腐蝕而形成,探針分子首先固定在多孔硅孔洞里,然后通過生物反應前后的光譜峰位變化進行檢測目標分子濃度;同時利用不同腐蝕條件制備的多孔硅微腔的反射光譜或光致發光光譜進行編碼載體,實現對抗原或抗體種類的標識。這種光學免疫檢測方法不僅兼具多孔硅和光子帶隙結構傳感器的諸多優異性能,而且結構穩定性很好,通過編碼檢測技術更是可以實現多元檢測。此外,由于采用的制備方法較為簡單,價格相對低廉,有一定的商業應用前景。
聲明:
“基于多孔硅三元結構微腔的光學免疫檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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