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    非晶Ga2O3光電探測器及其制備方法和性能提升方法

    735   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:24:12
    本發明公開了一種非晶Ga2O3光電探測器及其制備方法和性能提升方法，所述非晶Ga2O3光電探測器包括：襯底、沉積于所述襯底表面的摻氫非晶Ga2O3薄膜有源層和設置于所述摻氫非晶Ga2O3薄膜有源層上的電極；其中，所述摻氫非晶Ga2O3薄膜有源層為在20℃～400℃含氫氣氛下，采用真空沉積法制備的非晶薄膜；所述真空沉積法包括磁控濺射、脈沖激光沉積、電子束沉積、化學氣相沉積中的任一方法。
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    “非晶Ga2O3光電探測器及其制備方法和性能提升方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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