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    單片晶圓測試多臺設備的方法

    1125   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:25:17
    本發明公開了一種單片晶圓測試多臺設備的方法，包括以下步驟：應力測試儀對裸硅晶圓進行應力前置測試，獲取前置應力值；將裸硅晶圓置入化學氣相沉積設備中，對應力測試后的裸硅晶圓沉積氮化硅，膜厚測試儀對沉積氮化硅的硅晶圓進行膜厚和折射率測試，獲取氮化硅膜厚和折射率作為化學氣相沉積設備測機參數，以及應力測試儀對沉積氮化硅的硅晶圓進行后置應力測試，獲取第一后置應力值。本方案省去多道傳統檢測工藝步驟，簡化測機工藝流程，縮短了檢測周期，減少測機片的使用，提高檢測效率。
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    聲明：
    “單片晶圓測試多臺設備的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    化學分析
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