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    異質外延生長的氮化鎵晶體的位錯密度測定方法

    947   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:27:10
    本發明涉及一種異質外延生長的氮化鎵晶體的 位錯密度的測定方法，特征在于用光輔助濕法刻蝕結合原子力 顯微鏡對刻蝕的表面位錯腐蝕坑密度統計，測出GaN外延層 的位錯密度；其具體測定步驟是：(1)先按照異丙醇、丙酮、乙 醇的順序對GaN樣品進行化學清洗清洗后用大量去離子水洗凈，用高純N2吹干；(2)將樣品用石蠟或夾子固定在載玻片上，放入盛有1－10M KOH溶液中，采用磁子攪拌，在Cd－He激光器提供的激光照射下，進行濕法刻蝕，時間為5－10分鐘；(3)取出刻蝕樣片，用去離子水清洗，高純N2吹干，然后用原子力顯微鏡，進行刻蝕表面的位錯腐蝕坑統計，估算出GaN外延層的位錯密度。本發明提供的位錯密度測定方法可靠、有效，與其它方法，如XRD位錯密度估算方法相比，一致性好。
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    化學分析
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