本發明公開一種金屬層冗余金屬填充測試光掩模的設計和應用,提出一種具有多種應用功能的金屬層冗余金屬填充測試光掩模的設計及其應用。使用本發明的光掩??梢杂行У靥岣呓饘賹尤哂嘟饘偬畛湓O計和金屬層化學機械研磨工藝開發的效率,有效地提高預測經過金屬層化學機械研磨后的平坦度和需要的圖形密度調整的效率,同時,可以減少光刻工藝模塊中所使用測試光掩模的成本。
聲明:
“金屬層冗余金屬填充測試光掩模設計和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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