本發明提供一種基于重組皮膚模型的光致敏性評價方法,所述方法包括以下步驟:S1.復蘇重組皮膚模型;S2.涂抹受試物;S3.清洗受試物;S4.選取光源;S5.評價光致敏性;其中,所述評價光致敏性包括:利用雙末端測序法分析全基因組,通過與未照射組比較致敏相關基因上調個數來評價受試物的光致敏性。本發明基于重組皮膚模型的光致敏性評價方法,不僅能夠檢測容易分散的化學品,還能檢測不分散的化學品及化妝品成品。
聲明:
“基于重組皮膚模型的光致敏性評價方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)