利用光束偏振狀態變化監視固體表面的等離子體反應(在刻蝕或淀積期間)。在等離子體處理期間襯底的物理參數將發生變化。所監視的光束表征了襯底表面組分的變化和與等離子體處理相關的組分變化。表面反射的光束通過采用橢偏儀測量術但是采用新計算方法的系統分析。光偏振狀態的周期被用作參照點以實時監視表面情況。本發明還可以用于表面的定量和定性化學分析。
聲明:
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