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    高質量的拓撲半金屬InBi生長方法

    980   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:31:49
    本發明公開了一種利用高溫回轉爐生長高質量拓撲半金屬InBi單晶的方法，塊體是In、Bi元素以1:1化學計量比形成的化合物，是具有第二類狄拉克點的拓撲半金屬材料，通過低場磁輸運測試，塊體單晶具有大的載流子濃度1018cm?3和高遷移率，14T未飽和磁阻MR的值到達12000％，低溫1.5K、高場60T出項明顯振蕩；同時角分辨光電子能譜(ARPES)和X射線衍射光譜儀(XRD)的表征，證明了其很高的質量，ARPES分析在ΓXΓ和MXM方向上發現2條nodal?line。制備方法是高溫融合后，以1℃/min的速率緩慢降溫至室溫結晶形成大塊單晶，所獲得的單晶表征ARPES和XRD信號均與文獻記載相吻合，確定為高質量的塊體，同時材料制備參數易調整，設備簡單，易操作，生長過程可控，工藝重復性好，具有較高的制備效率。
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    聲明：
    “高質量的拓撲半金屬InBi生長方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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