本發明公開了一種半導體清洗液管理裝置,包括:儲液單元,用于儲存清洗液;濃度液位檢測單元,用于檢測所述儲液單元中清洗液的濃度及液位,并將檢測到的濃度數據及液位數據傳輸給所述控制單元;控制單元,用于根據所述濃度數據及液位數據生成相應的控制信號,并將所述控制信號發送給所述執行單元;執行單元,用于根據所述控制信號執行所述儲液單元的清洗液的排放、補充所述儲液單元的化學藥劑、補充所述儲液單元的水、更換所述儲液單元的清洗液、回收反應腔體的清洗液、以及供液給反應腔體的動作。本發明通過與反應腔體控制裝置的結合,實現了對清洗液進行自動管理,并實現了在沒有技術人員對清洗液進行管理的情況下,持續的進行清洗工藝。
聲明:
“半導體清洗液管理裝置及方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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