本發明公開了一種可以在沒有化學輔助的環境下取得高值高寬比的超高真空聚焦離子束微研磨設備及其工藝。一個超高真空腔(10)包括多個通口,用于觀察目標襯底,對目標襯底進行鍍膜,插入或者操作目標襯底,以及對目標襯底進行各種分析。通口(12)可以是一個具有用于攝影通口的通口(14)。此外,本發明公開了一種采用微研磨工藝制作的耐久的數據存儲介質,該耐久的數據存儲介質可以存儲諸如數字字符或字母字符以及圖形形體或圖形字符。
聲明:
“超高真空聚焦離子束微研磨及其制品” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)