本發明涉及一種具有轉動型加熱器的化學氣相沉積(CVD)裝置。具體地,本發明的CVD裝置的有益效果在于,其包括用于轉動加熱器的馬達和用于檢測加熱器的指向位置的位置傳感器組件,使得在沉積時沉積在晶片上的薄膜能夠通過加熱器的轉動而形成一致的厚度,而不管反應氣體不均勻地流入到反應室中,并且能夠確保晶片在沉積過程開始和結束時的指向位置彼此相同,從而使晶片在加熱器上沿預定方向定向。
聲明:
“具有轉動型加熱器的CVD裝置及其控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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