摻磷非晶金剛石薄膜電極及其制備方法,它涉及一種非晶金剛石薄膜電極及其制備方法。它為了解決非晶金剛石薄膜導電性能差,內應力大,與基底粘結力差的問題。通過以下步驟實現:(一)基底清洗;(二)離子刻蝕;(三)通摻雜氣體;(四)利用過濾陰極真空電弧沉積系統進行薄膜沉積;(五)導線連接;(六)電化學處理,得到摻磷非晶金剛石薄膜電極。摻磷非晶金剛石薄膜電極與MEMS體系相容,適于制成大面積電極用于污水處理,也適于制成微電極用于體內在線檢測,并且具有經濟、適用、易于產業化的特點。
聲明:
“摻磷非晶金剛石薄膜電極及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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