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    改善納米鍍膜設備等離子體均勻性裝置

    976   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:45:47
    本實用新型公開了一種改善納米鍍膜設備等離子體均勻性裝置，屬于真空鍍膜技術領域。該裝置中，高頻電源與反應腔室連接，電極與高頻電源連接并安裝于反應腔室內部，化學單體管路和工藝氣體管路與反應腔室連通；化學單體蒸汽和工藝氣體可通過管路通入反應腔室，通過高頻電源電極放電產生等離子體進行化學氣相沉積，形成聚合物涂層。本實用新型通過電極邊緣采用邊緣卷圓或者在電極的邊緣拼接、焊接、鉚接、螺紋裝配圓管、元棒或者定制型材的方法，可消除電極邊緣電場較強造成的等離子體密度較大的現象；同時采用本實用新型設計的電極經等離子體探針檢測，放電電場均勻度大幅改善，同批次工件鍍膜厚度更加均勻，鍍膜質量顯著提高。
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    “改善納米鍍膜設備等離子體均勻性裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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