本發明屬于表面科學技術領域。構造了一種全新的超高真空系統,系統由三個腔室組成,其中一個腔室包含密閉的耐高溫高壓的內核結構單元,此單元此可承受3個大氣壓的高壓和600K的高溫環境。將此單元置于超高真空系統內,進行有效的密閉,可以滿足各類化學反應或催化劑反應所需的高溫高壓條件。另外兩個腔室各自獨立,可同時進行傳統意義上的高品質樣品的分析和準備工作。本發明可用于催化劑化工領域研究、薄膜生長領域的研究、細胞生物學研究、電化學領域的研究等。
聲明:
“全新的包含耐高溫高壓結構單元的超高真空系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)