根據本發明的雙重管結構流動池裝置的特征在于包括:包括第一流路形成部,連接于介質流入部,以供流動介質流入,并且所述第一流路形成部形成有第一流路部,以供流動介質流動;第二流路形成部,以與所述第一流路部連通的方式形成有第二流路部,并且所述第二流路形成部連接于介質排出部,以使所述第二流路部的流動介質排出;以及氣泡排出部,連接于所述第一流路形成部,以排出混合在所述第一流路部的流動介質中的氣泡。根據本發明,高溫的流動介質在雙重管結構流動池裝置中流動,流動介質的波長被光吸收,所以在實際的半導體工序中使用的條件下測量流動介質的濃度,無需為了提高流動介質的檢測靈敏度而對流動介質分多次進行化學處理。
聲明:
“雙重管結構流動池裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)