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    Ta/Ni微腔陣列薄膜及其制備方法

    1224   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:01:26
    本發明公開了一種Ta/Ni微腔陣列薄膜，包括導電襯底，所述導電襯底上設有Ni層，所述Ni層上設有Ta層；所述Ni層上設有多個有序排列的碗狀孔，碗狀孔開口朝上；所述Ta層具有碗狀殼和設于碗狀殼頂部的頂蓋，碗狀殼和頂蓋合圍形成微腔，所述碗狀殼與碗狀孔相對應，所述頂蓋中部設有圓孔。還公開了一種Ta/Ni微腔陣列薄膜的制備方法，采用電解法在導電襯底上制得Ni層，采用磁控濺射法在Ni層上制得具有微腔結構的Ta層。Ta層的微腔結構有利于實現微溶液的存儲和限域反應，增加薄膜的比表面積，有利于提高電化學分析時的靈敏度，制備方法工藝簡單，成本低，生產效率高。
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    “Ta/Ni微腔陣列薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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