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    半導體清洗設備的加液方法及裝置

    1086   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:04:30
    本發明提供了一種半導體清洗設備的加液方法及裝置，其中，半導體清洗設備的加液方法，包括：S1，檢測清洗槽內是否有殘存液體，若是，則進行步驟S2;S2，排出殘存液體，重復所述步驟S1，若否則進行步驟S3；S3，獲取設定的清洗槽需要的藥液總量與配比，以及獲取設定的所述溶液加入順序；S4,依據所述藥液的配比以及加入順序，完成自動加液。通過將加液過程自動化，并將加液時各種溶液的加入順序以及配比進行設定，多種藥液按照加入順序，依次加入到清洗槽中，從而避免藥液因為順序錯誤而導致的混合不均、不完全混合、產生其他化學反應等，大大提高了清洗的自動化程度以及可操作自由度。
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    聲明：
    “半導體清洗設備的加液方法及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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