本實用新型公開了一種真空氣相沉積反應室,包括:腔室;轉盤,繞自身軸線可轉動地設置在腔室內,轉盤上設置有基片;反應氣體噴頭,設置在腔室的內頂壁上,用于朝向轉盤噴射反應氣體;導流機構,包括導流板,導流板沿第一方向可相對轉盤的側壁移動地設置在腔室內;控制機構,用于檢測對基片處理過程中腔室內的反應環境,并根據反應環境控制導流板相對轉盤的側壁移動以調節導流板與轉盤的側壁之間的間隙大小。本實用新型通過控制導流板相對轉盤的側壁移動以調節導流板與轉盤的側壁之間的間隙大小,從而可以引導腔室內的氣流,避免反應氣體在轉盤的邊緣與腔室內壁之間形成局部渦流,進而可以提高對基片化學處理的均勻性。
聲明:
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