本發明涉及一種制備納米間隙電極的反饋控制系統,其包括:直流沉積單元、實時監測單元、信號采集單元及控制器,直流沉積單元包括一直流源與一電化學液池,電化學液池中設置有對電極、參比電極及一對待沉積電極對,其中直流源為一電化學工作站,其第一輸出端連接至對電極,第二輸出端連接到參比電極,第三輸出端經由地線連接到待沉積電極對,與第一輸出端構成直流沉積回路;實時監測單元包括二采樣電阻及二交流源,二采樣電阻分別與待沉積電極對串聯,另一端分別與二交流源串聯形成交流回路,二交流源的另一端與電化學工作站的第三輸出端共地;信號采集單元連接在采樣電阻與待沉積電極對之間,信號采集單元的輸出與控制器連接,控制器的輸出與電化學工作站的控制端連接。
聲明:
“制備納米間隙電極的反饋控制系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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