本發明涉及一種低發射率及低吸收比熱控涂層的制備方法。包括以下操作步驟:(1)按常規鋁合金浸蝕處理方法進行前處理;(2)將前處理天線陣面放入化學拋光溶液中化學拋光;(3)將拋光天線陣面按電壓——時間動態參數關系微調技術進行電化學氧化;(4)按常規熱純水封孔處理,得到具有高精度低發射率/低吸收比熱控涂層的鋁合金縫隙波導天線陣面;(5)按常規半球發射率和太陽低吸收比測試方法進行測試;測試結果是半球發射率εH為0.32±0.02,太陽吸收比αs為0.18±0.02;(6)本發明的高精度低發射率及低吸收比熱控涂層經總遭遇量為1.6×1020個/cm2的耐原子氧空間環境試驗后,外觀完好,不起泡、不起皮,不剝落,試驗前后半球發射率和太陽吸收比的變化小于0.02。
聲明:
“低發射率及低吸收比熱控涂層的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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