本發明公開一種利用介質薄膜控制Otto結構中空氣隙厚度的方法,當光強反射率R取得最小值時,此時對應的空氣隙厚度d1即為需要鍍制的介質薄膜的厚度;采用物理沉積法或化學沉積法在棱鏡底面鍍制介質薄膜;介質薄膜鍍制完成后,采用精密測量儀器測量得出的所鍍介質膜層的厚度,即為實際控制的納米尺度空氣隙的厚度。本發明解決了用來產生表面等離子體共振效應的Otto結構中納米尺度空氣間隙厚度難于精確控制的問題。
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