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    曝光方法和曝光設備

    1139   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:14:38
    一種曝光設備和方法,可優化光致抗蝕劑膜的曝光,而與光致抗蝕劑膜因曝光而發生的化學反應無關。利用第1光致抗蝕劑膜和第1半導體片測量最佳曝光,并將獲得的數據存到存儲器中,然后用相同的曝光對第2半導體片上的第2光致抗蝕劑膜曝光,測量開始曝光時由第2光致抗蝕劑膜和第2半導體片的反射光強。讀出存儲的第1光致抗蝕劑膜和第1半導體片的最佳曝光時間數據,將它用作第2光致抗蝕劑膜和第2半導體片的最佳曝光時間。
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