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    使用激光干涉反饋的超長金屬帶式光柵尺刻劃系統

    1069   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:17:29
    本發明公開了一種使用激光干涉反饋的超長金屬帶式光柵尺刻劃系統，主要包括：為金屬帶覆膜的覆膜單元，使用激光在覆膜金屬帶預設位置刻劃掉覆膜的激光蝕刻單元以及通過化學/電化學手段腐蝕掉覆膜金屬帶中被激光刻劃掉覆膜位置的金屬，最終形成光柵尺的金屬蝕刻單元，以及保證金屬帶依次經過上述機構的傳輸機構。激光蝕刻單元中設有夾持金屬帶沿工作方向運動的夾持模塊，該模塊作為金屬帶主要的前進動力源。同時為了保證能夠高精度的測量夾持模塊的運動距離，以使得運動距離和光柵刻劃位置精確對應，激光蝕刻單元中還設有激光干涉測量模塊和輸出激光的激光模塊。
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    “使用激光干涉反饋的超長金屬帶式光柵尺刻劃系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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