本發明涉及輻射探測技術領域,具體涉及一種帶有多層反射膜的閃爍體陣列及其制備方法和應用。本發明提供的帶有多層反射膜的閃爍體陣列的制備方法,包括以下步驟:在原位制備的閃爍體陣列表面沉積高反膜,得到帶有多層反射膜的閃爍體陣列;所述沉積的方法包括原子層沉積法、物理氣相沉積法和化學氣相沉積法中的一種或幾種。本發明通過采用原子層沉積法、物理氣相沉積法或化學氣相沉積法在閃爍體陣列的表面沉積高反膜,能夠同時對閃爍體陣列中的所有閃爍體條進行鍍膜,無需對每個閃爍體條單獨鍍膜,能夠節省制造成本,提高生產效率,且能夠適應小尺寸的閃爍體陣列。
聲明:
“帶有多層反射膜的閃爍體陣列及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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