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    單一取向鋅鎵氧薄膜及其制備方法

    972   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:05
    本發明提供了一種單一取向ZnGa2O4薄膜的制備方法，包括以下步驟：以有機鋅化合物作為鋅源，有機鎵化合物作為鎵源，以高純氧氣為氧源，利用金屬有機化合物化學氣相沉積法在襯底表面沉積ZnGa2O4薄膜。本發明提供的單一(111)取向ZnGa2O4薄膜的制備方法，其利用金屬有機化合物化學氣相沉積(MOCVD)技術，以有機鋅化合物作為鋅源，有機鎵化合物作為鎵源，以高純氧氣為氧源，通過生長溫度、鋅源、鎵源和氧氣流量的精確控制，實現了高質量單一(111)取向尖晶石結構ZnGa2O4薄膜的生長，為實現高性能日盲紫外光探測器提供了便捷有效的手段。
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    聲明：
    “單一取向鋅鎵氧薄膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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