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    磁共振偏中心成像二階勻場方法

    1044   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:36
    本發明涉及一種磁共振偏中心成像二階勻場方法，包括：1.3D雙回波梯度回波數據采集及重建；2.定量計算三維B0場圖；3.測量一階勻場輸出刻度；4.測量二階勻場輸出刻度；5.自動勻場計算；6.偏磁體中心的一階勻場修正；7.勻場輸出，通過步驟5和6最終計算得到的各勻場分量數值，并利用步驟3和4中得到的刻度值轉換為勻場功放的輸出值，實現偏磁體中心的二階勻場。本發明消除或減小了來自于圖像中有磁共振中心頻率的誤差、化學位移的影響、部分容積效應、圖像上距離與物體實際距離的誤差，勻場功率放大器輸出的誤差等原因造成的勻場效果不準確；有效地消除或減小了離磁體中心較遠位置所受到的二階以上的高階不均勻項引起的誤差。
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    聲明：
    “磁共振偏中心成像二階勻場方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    化學分析
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