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    碳化硅高深寬比槽刻蝕工藝優化方法

    812   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:36
    本發明公開了碳化硅高深寬比槽刻蝕工藝優化方法，包括以下步驟：S1、采用鍍膜設備鍍膜，測量非金屬掩膜層膜厚H1、折射率N1；S2、采用加密設備加密，測量其膜厚H2、折射率N2；S3、判斷加密工藝有效性；S4、判斷S1、S2步驟是否結束；S5、采用光刻工藝制作光刻膠掩膜；S6、采用刻蝕工藝刻蝕非金屬掩膜、采用化學腐蝕工藝去除殘留光刻膠；S7、采用刻蝕工藝刻蝕碳化硅溝槽；S8、觀察碳化硅溝槽刻蝕形貌，計算選擇比Selectivity，判定刻蝕完整性。本發明用以解決非金屬掩膜作碳化硅刻蝕掩膜刻蝕選擇比小于3，碳化硅溝槽線寬損失大的問題。
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    “碳化硅高深寬比槽刻蝕工藝優化方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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