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    大面積熱絲CVD金剛石薄膜生長裝置

    714   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:51
    本實用新型涉及金剛石膜生長領域，尤其涉及一種大面積熱絲化學氣相沉積(CVD)金剛石薄膜生長裝置。該裝置設有密閉的反應腔體，反應腔體內的上部設有氣體噴淋環，氣體噴淋環通過管路與外部氣源連接，反應腔體的外側設有抽真空系統和真空測控系統；氣體噴淋環下方于反應腔體內，平行依次布置熱絲、基片、導電層、絕緣層、水冷樣品臺，基片、導電層、絕緣層疊放于水冷樣品臺上，水冷樣品臺通過轉軸與外部調速電機相連接。本實用新型可以實現在大面積基片上快速、均勻沉積金剛石薄膜電極，減少反應氣體的消耗，沉積過程中能測控熱絲的溫度、工件表面的溫度和反應腔內的壓強，能準確控制金剛石薄膜沉積各項主要工藝參數，工藝重復性好。
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