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    超低介電常數、低介電損耗聚酰亞胺薄膜的制備方法

    912   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:58
    本發明涉及超低介電常數、低介電損耗聚酰亞胺薄膜的制備方法，一種首先采用水解共縮合法與多步提純得到HBPSi，最終以化學鍵的形式將HBPSi結構引入PI分子主鏈，實現了在分子水平上對PI材料的改性，顯著降低了PI材料的介電常數，并較好的保持了PI材料固有的優點。該PI薄膜介電性能優異，耐熱性優良，力學強度突出，吸水率低，表面平整度高，制備過程反應條件溫和，研發成本較低，有利于大規模工業化生產。與目前普遍使用的Kapton標準膜相比，在同等測試條件下HBPSi-PI薄膜的介電常數降低了30％～40％，最低介電常數甚至接近2.0，達到超低介電常數的水平，能夠滿足未來微電子行業發展的迫切需求。
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