本發明公開了一種用于直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的基底自動恒溫技術,其特征是采用雙熱電偶分別對基底側面、背面溫度進行測量并校正,由帶負反饋功能PID調節器、后備操作器、電動調節閥組成的閉環控制系統進行精確控溫,并開發了基于BT2000工控組態軟件平臺的WINDOWS人機交互界面,用于溫度、閥位、沉積過程的監控、數據采集和存儲。本發明具有控制精度高,操作方便,極其適合直流弧光放電等離子體化學氣相金剛石薄膜的制備。
聲明:
“直流弧光放電PCVD金剛石薄膜制備的基底恒溫技術” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)