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    > 雙模逐層測量系統

    雙模逐層測量系統

    738   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:28
    本發明涉及電子衍射儀，提供一種雙模逐層測量系統，包括真空樣品室，真空樣品室內設置有樣品臺，還包括電子脈沖控制單元、缺陷調控光路以及處理單元，缺陷調控光路上設置有激光脈沖能量調節裝置以及激光脈沖掃描裝置，處理單元包括用于接收電子背散射花樣的第一接收組件、用于接收衍射圖像的第二接收組件以及分析接收后衍射圖像與電子背散射花樣以控制激光脈沖能量調節裝置與激光脈沖掃描裝置的控制中心。本發明的測量系統可對微納制造過程原位實時無損測量，實現邊生長、邊檢測，且通過對衍射圖像以及背散射花樣處理獲得樣品表面缺陷信息，并根據此信息反饋調節飛秒激光脈沖能量及掃描位置，進行缺陷的修復，實現邊檢測、邊調控的目的。
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    聲明：
    “雙模逐層測量系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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