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    測量光刻膠掩模槽形結構參數的方法

    820   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:31
    本發明公開了一種測量光刻膠掩模槽形結構參數的方法，其特征在于：采用TE/TM線偏振光為入射光，入射角為被測掩模的閃耀角，分別測量標準反射片的反射光的光譜分布D0(λ)；被測掩模的反射衍射零級復色光的光譜分布D(λ)；采用比較法，計算出介質膜光柵掩模實際的反射衍射零級的光譜分布Rg(λ)，對其進行光譜反演，得到掩模的槽形參數：光刻膠的剩余厚度、槽深和占寬比。本發明實現了對于面積、重量均較大的待測掩模的槽形參數的無損檢測；且可以避免測量系統的誤差，對光譜儀測量系統以及光源沒有特別要求，測量方法簡單易行。
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    聲明：
    “測量光刻膠掩模槽形結構參數的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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