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    基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置及方法

    914   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:33
    本發明公開了一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置，包括光源、第一反射鏡、第二反射鏡、攝像機和處理器；光源用于產生非相干光，照射被測樣品的第一被測面和第二被測面，第一被測面和第二被測面相互平行，且第一被測面和第二被測面均與攝像機光軸平行；第一反射鏡，用于使第一被測面經其反射至攝像機鏡頭并成像；第二反射鏡，用于使第二被測面經其反射至攝像機鏡頭并成像；攝像機，用于在同一幅圖像中同時采集第一被測面和第二被測面的圖像，并傳輸至處理器進行處理，得到被測樣品的應變。本發明還公開了一種基于雙鏡反射的均勻應變光學測量裝置的測量方法，本發明能夠對有初始彎曲的被測樣品進行無損測量，修正離面剛體位移引起的虛假應變。
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