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    利用光子自旋霍爾效應測量納米級薄膜厚度的方法

    860   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:58:33
    本發明屬于光學領域，涉及一種納米級薄膜厚度的測量方法，特別是指一種利用光子自旋霍爾效應測量納米級薄膜厚度的方法。步驟如下：建立不同材料、各薄膜厚度下，PSHE分裂位移隨入射偏振態變化的理論數據庫；選取一組入射偏振，使入射光以某一初始入射偏振入射到被測薄膜表面，并獲取此入射偏振下的自旋分裂位移；依次改變入射光的偏振角度，得到自旋分裂位移隨入射偏振角變化的測量數據；將所得測量數據與各薄膜厚度下的理論數據進行計算和比對，確定被測薄膜的厚度。本發明利用不同入射偏振下的PSHE的自旋分裂位移與薄膜厚度的依賴關系，實現對金屬和非金屬材料薄膜厚度的非接觸、無損的高精度測量，該測量系統結構簡單、便于操作。
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