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    用于釹鐵硼磁體的鍍膜設備及鍍膜工藝

    1053   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:59:26
    本發明主要涉及一種用于釹鐵硼磁體的鍍膜設備及鍍膜工藝，專用鍍膜設備的基本原理為雙層輝光等離子表面冶金，其主要特征結構包括真空室，真空室中部平行等距且相互絕緣的源極和陰極，源極和陰極外的隔熱柵，真空室上方的陽極，真空室下方的氬氣入口以及真空室后方的真空系統，真空室外的測溫系統；表面生成的金屬膜層厚度均勻且金屬靶材的利用率高，整個鍍膜過程中溫度相對偏低，對磁體的損害較小，可控性強，無污染，對人體無損害，設備結構簡單，靶材限制性小。
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