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    半導體失效分析結構及形成方法、檢測失效時間的方法

    1154   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:59:29
    一種半導體失效分析結構及其形成方法、檢測失效時間的方法，其中所述半導體失效分析結構包括：半導體襯底，所述半導體襯底具有待測區、第一串聯區和第二串聯區；位于所述半導體襯底的待測金屬層、第一金屬層和第二金屬層；位于層間介質層內的第一導電插塞使第一金屬層、第二金屬層和待測金屬層串聯；位于所述第一串聯區的若干第一電阻金屬層；位于所述第二串聯區的若干第二電阻金屬層；位于第一串聯區層間介質層內的若干第二導電插塞；位于第二串聯區層間介質層內的若干第三導電插塞；所述第一導電插塞、第二導電插塞、第三導電插塞將所述待測金屬層、第一金屬層、第二金屬層、若干第一電阻金屬層和若干第二電阻金屬層依次串聯。
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    失效分析
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