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    芯片失效分析方法及芯片失效分析標記

    1200   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:59:29
    本發明揭示了一種芯片失效分析方法及芯片失效分析標記，包括：提供待測芯片，在SEM下將所述芯片的缺陷位置做第一標記；將所述待測芯片放置于FIB中，利用電子束照射所述第一標記以形成一氧化膜，從而形成在離子束下可識別的芯片失效分析標記。這避免了利用FIB離子束挖洞之前可能出現的尋找不到特征點的情況，節省了操作時間，可靠性高，并且在SEM中能夠達到30nm的精度，能夠滿足實際需求。
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    聲明：
    “芯片失效分析方法及芯片失效分析標記” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    失效分析
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