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    測試對準使用芯片的制作方法

    948   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:19
    本發明公開了一種測試對準使用芯片的制作方法，其特征在于，包括：步驟1、在工藝初期圖形定義時，硅片內的所有區域都進行曝光；步驟2、當該硅片因為芯片尺寸過小時，需要進行對準芯片制作時，針對此類硅片，在硅片內部完整shot的位置上，選擇一個小的區域M進行二次曝光，使區域M內的全部或部分芯片失效，形成一個失效的芯片陣列，作為測試對準使用；步驟3、根據區域M中的失效芯片周邊芯片中是否含有有效芯片，來判定測試結果是否與硅片上實際芯片結果發生左、右、上、下的偏移。本發明的測試對準使用芯片的制作方法，相對于常規使用的不曝光方式制作失效芯片的方法影響面積少，判定準確率高，并且失效芯片數目變化靈活性高等優點。
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    聲明：
    “測試對準使用芯片的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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