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    > 塑封光耦解剖方法

    塑封光耦解剖方法

    1032   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:37
    本發明公開了一種塑封光耦解剖方法，通過X射線檢查塑封光耦的內部結構，利用激光開封機對塑封光耦進行局部去除，對塑封光耦的發光部分和接收部分進行分離，然后采用濃硫酸浸泡的方式，去除芯片表面的導光膠，實現失效分析以及DPA工作中的鍵合強度及芯片粘接分析工作。使得光耦解剖后，框架完整、芯片粘接及鍵合完整，可有效擴展塑封光耦的分析能力，即立體結構的塑封光耦也可進行鍵合強度試驗及芯片粘接分析。
    登錄解鎖全文
    聲明：
    “塑封光耦解剖方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    失效分析
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