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    用于顯現MOS器件的AA結構缺陷的腐蝕方法

    770   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:46
    本發明公開了一種用于顯現MOS器件的AA結構缺陷的腐蝕方法，包括以下步驟：第一步，將樣品倒置，放入質量百分比為49%的氫氟酸中浸泡2.5±0.5分鐘；在浸泡的同時，每30秒用去離子水沖洗之后，再用氮氣槍吹一下樣品表面；第二步，如N型MOS管失效，將樣品在第一混酸中浸泡5～8秒；如P型MOS管失效，將樣品在第二混酸中浸泡30～35秒；第三步，確認腐蝕結果，找出具體的失效模式。本發明針對不同的MOS管，使用不同的混酸來有效、清楚地顯現AA結構上的缺陷，能夠提高失效分析結果的準確性。
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    “用于顯現MOS器件的AA結構缺陷的腐蝕方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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