本實用新型涉及多弧離子鍍膜機,具體是一種多弧離子鍍膜機的間接水冷靶座電弧蒸發源。包括引弧機構、靶塊、不銹鋼靶座、電弧屏蔽盤、電弧調節套、絕緣套、水管、電磁裝置,所述靶塊與所述不銹鋼靶座之間設置有紫銅板,所述紫銅板正面與所述靶塊緊密接觸,紫銅板外邊緣與不銹鋼靶座焊接為一體。本實用新型取消了靶塊與靶座之間的密封圈,利用紫銅傳熱效率高的特點,將紫銅板與不銹鋼靶座體焊接成一體形成靶塊的間接水冷結構,從根本上解決了由于密封圈老化失效或密封不嚴造成漏水和漏氣,嚴重影響鍍膜室內真空度和鍍膜環境,造成鍍膜質量下降和檢查多個蒸發源是否漏氣漏水既繁瑣又不方便的技術難題,從而提高了蒸發源工作的穩定性和鍍膜質量。
聲明:
“間接水冷靶座電弧蒸發源” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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