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    光學鄰近效應修正模型的優化方法

    874   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:20:04
    本發明提出的一種光學鄰近效應修正模型的優化方法，選出焦距敏感圖形，對焦距敏感圖形使用嚴謹的光阻仿真器進行模擬獲得其光阻高度數據，量測出臨界尺寸優化光學鄰近效應修正光學模型和光學鄰近效應修正光阻模型，使得整個模型對由于三維效應而失效的圖形有很好的預測能力，同時相對于嚴謹的光阻仿真器模型具有更快的速度，能滿足32nm節點及更高節點整個版圖設計的光學鄰近效應修正和驗證的需求。
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