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    半導體器件及其形成方法

    1047   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:20:05
    一種半導體器件及其形成方法，所述形成方法可以包括：提供半導體襯底，所述半導體襯底包括芯片區以及切割道區；在所述半導體襯底的表面形成頂層金屬互聯結構；形成鈍化層，所述鈍化層覆蓋所述頂層金屬互聯結構，所述切割道區的鈍化層高于所述芯片區的鈍化層；對所述鈍化層進行刻蝕，以暴露出所述芯片區和切割道區內的頂層金屬互連結構。本發明方案有助于避免引線落在接地的測試鍵上，降低芯片發生短路失效的可能性。
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    “半導體器件及其形成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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