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    表面缺陷檢測系統

    表面缺陷檢測系統

    294
    規格/型號:Candela? 8520
    品牌:KLA
    應用領域:檢測設備
    產地:上海 - 上海
    廠家/供應商:KLA Instruments?
    咨詢電話::21-38178412(請說明信息源自“中冶有色網”)
    更新時間:2025-06-12
    級別:待認證

    表面缺陷檢測系統說明介紹

    Candela® 8520表面缺陷檢測系統

    Candela® 8520表面缺陷檢測系統


    Candela 8520第二代集成式光致發光和表面檢測系統,設計用于對碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進行高級表征。采用統計制程控制(SPC)的方法來進行自動晶圓檢測,可顯著降低由外延缺陷導致的良率損失,最大限度地減少金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)反應器的工藝偏差,并增加MOCVD反應器的正常運行時間。

    產品說明

    Candela 8520檢測系統采用專有的光學技術,可同時測量兩個入射角的散射強度。 它可以捕捉到形貌變化、表面反射率、相位變化和光致發光,從而對各種關鍵缺陷進行自動檢測與分類。Candela 8520為氮化鎵晶圓提供表面和光致發光的缺陷檢測,對氮化鎵位錯、凹坑和孔洞進行檢測和分類,用于氮化鎵反應器的缺陷控制。其功率應用包括基于碳化硅的透明晶圓檢查和晶體缺陷分類,如基面位錯、微管、堆疊層錯缺陷、條形堆疊層錯缺陷、晶界和位錯,以及對三角形、胡蘿卜形、滴落物和劃痕等形貌缺陷進行檢測。

    功能

    檢測寬帶隙材料上的缺陷,包括直徑達200毫米的碳化硅和氮化鎵(襯底和外延)

    支持各種晶圓厚度

    對微粒、劃痕、裂紋、沾污、凹坑、凸起、KOH蝕刻、胡蘿卜形與表面三角形缺陷、基平面位錯、堆疊層錯、晶界、位錯和其他宏觀外延干擾進行檢測

    應用案例

    襯底質量控制

    襯底供應商對比

    入廠晶圓質量控制(IQC)

    出廠晶圓質量控制(OQC)

    CMP(化學機械拋光工藝)/拋光工藝控制

    晶圓清洗工藝控制

    外延工藝控制

    襯底與外延缺陷關聯

    外延反應器供應商的對比

    工藝機臺監控

    行業

    工藝設備監控

    其他高端化合物半導體器件

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    KLA Instruments?
    企業認證:
      
    所屬領域:
    檢測設備
    企業性質:
    -
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    -
    聯系電話:
    21-38178412
    詳細地址:
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