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    磁控濺射儀

    磁控濺射儀

    414
    規格/型號:暫無
    品牌:科睿設備
    應用領域:加工設備
    產地:上海 - 上海
    廠家/供應商:科睿設備有限公司
    咨詢電話::13916855175(請說明信息源自“中冶有色網”)
    更新時間:2025-06-15
    級別:待認證

    磁控濺射儀說明介紹

    磁控濺射儀

    磁控濺射儀


    這是一款高性能的磁控濺射儀,適用于4英寸和6英寸襯底,具備4個靶位,靶材尺寸為3英寸,可濺射磁性材料。設備極限真空度低于6.6×10?? Pa,膜厚均勻性控制在±5%以內。靶與樣品距離可調,并可在30度內擺頭。配備load-lock系統,可放置5片6英寸樣品,電動馬達在高真空狀態下順序傳送并濺射樣品。樣品臺可加熱至750℃并支持旋轉,配備全自動真空控制模塊。氣路支持Ar、O?、N?,提供2個600W射頻電源和2個1000W直流電源,滿足多種薄膜制備需求。

    襯底尺寸:4'為主,6'兼容。

    濺射金屬膜厚均勻性要求:≤±5%。

    靶位:4個。

    極限壓力:<6.6×10-6e Pa。

    靶材尺寸:3英寸。

    可濺射磁性材料。

    靶與樣品距離可調,且可以在30度角度內擺頭。

    配置load-lock,可放置5片6英寸樣品,在高真空狀態下,由電動馬達分別傳送每片樣品,順序濺射每片樣品,逐一完成5片濺射鍍膜。

    樣品臺可加熱至750度,可旋轉。

    全自動真空度控制模塊。

    氣路:Ar、O2、N2。

    射頻電源:2個,每個600W。

    直流電源:2個,每個1000W

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